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EDI高純水裝置運(yùn)行注意事項(xiàng)
日期：2025-08-02 17:39
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摘要：
EDI高純水裝置運(yùn)行注意事項(xiàng)： EDI高出純水裝置主要有EDI膜堆、EDI直流電源、電源控制器、進(jìn)水增壓泵、流量壓力儀表、流量保護(hù)器等組成。進(jìn)水一般為二級(jí)RO產(chǎn)水，出水電阻大于15兆歐的高純水，因可以穩(wěn)定長(zhǎng)期的運(yùn)行且無(wú)需再生，廣泛應(yīng)用于高純水的生產(chǎn)場(chǎng)合。
EDI高純水運(yùn)行原理：EDI指用離子交換膜，離子交換樹(shù)脂，在直流電場(chǎng)的作用下，從水中去離子的過(guò)程，自從1987年Ionpure將此技術(shù)推向市場(chǎng)后，不斷進(jìn)行改進(jìn)，以降低成本和提高去離子度。市場(chǎng)上大多數(shù)的EDI產(chǎn)品由交替放置的陽(yáng)離子膜和陰離子膜構(gòu)成，水從其中的膜隙流過(guò)。這些交替放置的陰、陽(yáng)離子交換膜被固定在兩個(gè)帶有進(jìn)出水口的裝置之間，水從其中的膜間隙流過(guò)。面向正極的陰離子膜與面向負(fù)極的陽(yáng)離子膜之間構(gòu)成濃水室，面向負(fù)極的陰離子膜與面向正極的陽(yáng)離子膜之間組成淡水室。
EDI高純水裝置運(yùn)行注意事項(xiàng)：EDI高純水裝置運(yùn)行一定時(shí)間后，膜堆內(nèi)部會(huì)有水垢，有機(jī)物和微生物存在，樹(shù)脂由于長(zhǎng)期工作也會(huì)部分消耗，它們的存在會(huì)嚴(yán)重影響出水的水質(zhì)，因此需定期對(duì)EDI膜堆維護(hù)保養(yǎng)。維護(hù)保養(yǎng)內(nèi)容主要含：膜堆的清洗、**、膜堆的再生、電源維護(hù)等。
EDI膜堆的清洗:
☆給水硬度較高將引起離子交換膜濃水側(cè)結(jié)垢，而使純水水質(zhì)降低，可以用適當(dāng)?shù)乃崛芤呵逑次酃浮?/span>
☆給水中的有機(jī)物污染，會(huì)在離子交換樹(shù)脂和離子交換膜表面形成薄膜，將嚴(yán)重影響離子遷移速率，從而影響純水水質(zhì)，純水室需用適當(dāng)?shù)那逑磩┣逑础?/span>
EDI膜堆的再生:
☆如果EDI模塊在無(wú)電或給電不足的情況下運(yùn)行，交換床內(nèi)離子處于離子飽和狀態(tài)，EDI高純水裝置產(chǎn)水的純度會(huì)降低。為了再生離子交換樹(shù)脂，需將水流通過(guò)模塊，并慢慢增加電源供應(yīng)電壓，使被吸附的離子遷移出系統(tǒng)，樹(shù)脂再生時(shí)，模塊將通過(guò)比正常運(yùn)行更多的電流。
