EDI高純水設(shè)備調(diào)試與維護(hù)
EDI即Electrodeionization的縮寫,它是一種將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)結(jié)合在一起的脫鹽新工藝。
1986年商用EDI出現(xiàn)于制藥行業(yè)
★二十世紀(jì)九十年代大型商用EDI開始在化學(xué)和半導(dǎo)體行業(yè)被使用
★新一代EDI設(shè)備誕生于1997年
★進(jìn)入2000年以來,在北美及歐洲EDI已占據(jù)了超純水設(shè)備相當(dāng)部分的市場
★自2005年,EDI在國內(nèi)得到越來越廣泛的認(rèn)可和應(yīng)用。
水處理工業(yè)的**
連續(xù)電除鹽裝置和傳統(tǒng)離子交換相比,EDI 所具有的優(yōu)點(diǎn):
☆無再生污水及污水處理設(shè)施
☆節(jié)省反沖和清洗用水,高產(chǎn)率生產(chǎn)超純水
☆EDI 再生時不需要停機(jī)
☆提供穩(wěn)定的水質(zhì)
☆耗能低
☆操作管理方便,勞動強(qiáng)度小
☆安裝簡單,運(yùn)行、維護(hù)費(fèi)用低廉
☆濃水可做軟化水,提高了水的利用率
EDI 組件結(jié)構(gòu)
Ø淡水室
Ø濃水室
Ø極水室
Ø絕緣板
Ø電源及水路連接
EDI高純水設(shè)備進(jìn)水條件
以下是保證EDI正常運(yùn)行的*低條件,為了使系統(tǒng)運(yùn)行結(jié)果更佳,設(shè)計時應(yīng)適當(dāng)提高標(biāo)準(zhǔn)。
給水:RO純水,電導(dǎo)率為1-40μS/cm(以25度時NaCl溶液計)。一般應(yīng)經(jīng)過單級反滲透+軟化或者雙級反滲透處理。
TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm.
pH :6.0~9.0(*佳電阻率性能對應(yīng)的pH范圍為 7.0~9.0 )。
溫度: 5-35°C(41-95°F)。
進(jìn)水壓力:*大為4bar(60psi)。
出水壓力:濃水和極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品水的出口壓力。
硬度(以CaCO3計):進(jìn)水硬度<0.1 ppm,回收率是95%;進(jìn)水硬度0.1-0.5 ppm,回收率是90%;進(jìn)水硬度0.5-0.75 ppm,回收率是80-85%;當(dāng)入水硬度為0.75-1ppm時,需要得到廠家認(rèn)可 。
有機(jī)物:*大為0.5 ppm TOC,建議值為零。
氧化劑:*大為0.05 ppm(Cl2),0.02 ppm(O3)。
變價金屬:Fe*大為0.01 ppm,Mn*大為0.01 ppm。
二氧化硅 :小于0.5 ppm。
二氧化碳的總量:二氧化碳含量將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。如果CO2 大于10 ppm, EDI系統(tǒng)不能制備高純度的產(chǎn)水。可以通過調(diào)節(jié)反滲透進(jìn)水 pH 值或使用脫氣裝置來降低CO2 量。
EDI高純水設(shè)備調(diào)試
Ü準(zhǔn)備工作
•如果采用了脫氣、RO+軟化工藝,必須做好著以下兩部分的調(diào)試工作
Ü準(zhǔn)備工作
脫氣注意事項(xiàng):
如果采用脫氣膜+吹氣方式時,必須對空氣進(jìn)行0.22um**過濾
Ü準(zhǔn)備工作
當(dāng)采用RO+軟化+EDI的方式時,必須對樹脂的進(jìn)行清洗處理,方法如下:
水洗,3%HCl浸泡24小時
水洗,1%NaOH+5%NaCl浸泡24小時
水洗,3%HCl浸泡24小時
正常再生
注意:再生時鹽的鐵錳含量必須低于5ppm
Ü開機(jī)準(zhǔn)備
•仔細(xì)閱讀操作手則。
•檢查系統(tǒng)管路,保證連接正確、完畢。
•檢查電路系統(tǒng),保證連接正確、完畢。
•檢查儀表系統(tǒng),保證連接正確、完畢
•調(diào)試給水泵及濃水泵。
•逐個調(diào)試整流單元
•校準(zhǔn)、設(shè)置儀表
•調(diào)試自動控制系統(tǒng)及各流量、壓力開關(guān)
•上述工作完成后,用水沖洗系統(tǒng)管路,準(zhǔn)備系統(tǒng)開機(jī)。
注意:上述所有過程膜組件都必須處于斷電狀態(tài)
Ü系統(tǒng)啟動
1、開EDI系統(tǒng)控制電源。
2、啟EDI給水泵
3、察EDI入水電導(dǎo)率,超過設(shè)定值時,自動排放,如合格,入水電閥打開,排水電閥關(guān)閉,如不符合以上描述,需檢查電導(dǎo)儀,并重新設(shè)置
4、慢打開濃水補(bǔ)水閥,待水充滿濃水室后,打開濃水排氣閥,當(dāng)有大量水連續(xù)排除時,關(guān)閉排氣閥
5、啟濃水循環(huán)泵
6、純水、濃水、極水管道實(shí)行脈沖供水以進(jìn)一步從EDI系統(tǒng)中排出空氣
7、節(jié)純水流量、濃水流量、濃水排放流量、極水流量達(dá)到設(shè)計范圍
8、EDI電源打開,使EDI盡快供電.
9、節(jié)純水入口壓力比濃水入口壓力高0.3-0.5kg/cm2,純水出口壓力比濃水出口壓力高0.5-0.7 kg/cm2.避免濃差滲透影響產(chǎn)水水質(zhì).
10、節(jié)濃水電導(dǎo)率在300us/cm左右.
11、節(jié)電流至規(guī)定值,且設(shè)置至電流模式.
12、運(yùn)行記錄表,做詳細(xì)記錄
Ü系統(tǒng)關(guān)機(jī)
1、EDI模塊電源“電流調(diào)節(jié)”至“0”,然后關(guān)斷
2、斷EDI給水泵、濃水循環(huán)泵電源
3、閉EDI系統(tǒng)控制電源
EDI高純水設(shè)備停機(jī)維護(hù)
Ü短期停機(jī)
1、須關(guān)斷電源供電
2、須關(guān)斷給水泵、濃水循環(huán)泵、加鹽泵
3、水閥、出水閥必須關(guān)閉
4、組件不脫水干燥
Ü短期停機(jī)
1、須關(guān)斷電源供電
2、須關(guān)斷給水泵、濃水循環(huán)泵、加鹽泵
3、水閥、出水閥必須關(guān)閉
4、組件不脫水干燥
膜塊維護(hù)
Ü初次使用
組出廠前,螺母已扭好,運(yùn)行之前如果發(fā)現(xiàn)個別螺母有松動,應(yīng)將所有螺母再次調(diào)整到20 ft-1bs,*大不超過25 ft-1bs.
Ü長期維護(hù)
定期檢查螺拴扭矩,必要時作調(diào)整
系統(tǒng)清洗
Ü濃水側(cè)結(jié)垢清洗
方法1 5%檸檬酸溶液
方法2 3%HCL溶液
Ü淡水側(cè)結(jié)垢清洗
方法 1%NaOH+5%NaCl溶液
Ü**清洗
方法 1% 過氧乙酸溶液
EDI高純水設(shè)備調(diào)試與維護(hù):故障分析
Ü產(chǎn)水水質(zhì)差
1. 原因:濃水出入口壓力與純水出入口壓力接近處理方法,節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求2. 現(xiàn)象:電壓較高而電流很低
原因:正負(fù)極接反
處理方法:切斷電源,核對接線
3. 現(xiàn)象:產(chǎn)水水質(zhì)差,而入水電導(dǎo)率顯示較低
原因:檢測入水,CO2是常見影響因素
處理方法:脫氣
4. 原因:電流較低
處理方法:調(diào)節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求
5.現(xiàn)象:電流不變,電壓較運(yùn)行初期升高
原因: 膜組件污染
處理方法:清洗
6.原因:儀表故障
處理方法:檢修儀表
極水流量低
1. 原因:入口壓力較低
處理方法:調(diào)節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求
2. 現(xiàn)象:投運(yùn)初期,流量過低
原因: 碎屑堵塞
處理方法:反向沖洗
3.原因:膜組件發(fā)生污染
處理方法:清洗
Ü濃水流量低
1、原因:入口壓力較低
處理方法:調(diào)節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求
2、現(xiàn)象:投運(yùn)初期,流量過低
原因: 碎屑堵塞
處理方法:反向沖洗
3、原因:膜組件發(fā)生污染
處理方法:清洗